內(nèi)置微處理器以菜單形式控制，感測器

而程序中的每條指令都是由控制器來分析執(zhí)行的，它是計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)“程序控制”的主要設(shè)備。通常把控制器與運(yùn)算器合稱為中央處理器。工業(yè)生產(chǎn)中總是采用先進(jìn)的超大規(guī)模集成電路技術(shù)來制造中央處理器，即CPU芯片。它是計(jì)算機(jī)的核心設(shè)備。它的性能，主要是工作速度和計(jì)算精度，對機(jī)器的整體性能有全面的影響。

控制器可以有只測量鎳或附帶有pH控制功能從而省去另外添置pH控制器的需要。兩個(gè)獨(dú)立泵輸出用于鎳及一個(gè)用于pH，每個(gè)都可統(tǒng)計(jì)泵的總運(yùn)作時(shí)間、總添加量或"金屬消耗"。用戶可透過背光源LCD顯示屏來查看鎳濃度與設(shè)定點(diǎn)的差距。電鍍缸外流通式感應(yīng)器

銅溶液濃度的變化，能減少人工滴定檢驗(yàn)的需要，感測器

PLC運(yùn)算，運(yùn)行穩(wěn)定；2.進(jìn)口LED燈鎳/詞離子感應(yīng)器，高精度；3.柱狀添加、添加量穩(wěn)定準(zhǔn)確，可任意比例添加：4.鎳/銅濃度隨MTO上升管理功能；5.鎳/銅離子濃度過高過低報(bào)警功能；6.鎳/銅濃度分析記錄功能，可查詢1個(gè)月的鎳/銅濃度分析記錄；7.故障自動(dòng)偵測，提示相應(yīng)故障并發(fā)生聲光報(bào)警；

應(yīng)用在蝕銅還可以省去換缸的需要，從而節(jié)省成本，增加生產(chǎn)能力。WCU系列型號價(jià)錢經(jīng)濟(jì)，內(nèi)置微處理器以菜單形式控制，能以克每升（g/L）或液盎司每加侖（oz/gal）來顯示，并可透過菜單來切換鍍銅或蝕銅模式免除更換控制器。

二:材料與方法1.1 主要原料堿性蝕刻廢液，感測器

線分析電鍍缸內(nèi)鍍鎳溶液濃度的變化，能以克每升（g/L）或液盎司每加侖（oz/gal）來顯示。使用此控制器在鍍鎳缸上能減少人工滴定檢驗(yàn)的需要并增加生產(chǎn)能力，當(dāng)?shù)竭_(dá)最大”金屬消耗”時(shí)更能自動(dòng)地提示使用者從而減少資源浪費(fèi)及增加電鍍缸的壽命。只需設(shè)定好設(shè)定點(diǎn)就能得到準(zhǔn)確的結(jié)果省去重復(fù)調(diào)校及校準(zhǔn)的不便。

含Cu 52.1g/L,Cl 102.81g /L,pH值9.8; 酸性蝕刻廢液，含Cu 92 .4g/L,Cl 70.8 g/L,pH值0.82。1.2 反應(yīng)原理及工藝流程將銅酸、堿性蝕刻廢液混合，發(fā)生中和反應(yīng)，沉淀出來的物質(zhì)經(jīng)過濾，洗滌，干燥，。