電鍍缸外流通式感應(yīng)器（190784）金鹽計(jì)數(shù)添加控制器

多余部分流回儲(chǔ)藥缸，然后電磁閥打開，量筒中的藥水流入到鎳/銅缸。4、數(shù)據(jù)記錄系統(tǒng)自動(dòng)保存分析數(shù)據(jù)，可查詢1個(gè)月數(shù)據(jù)5、報(bào)警系統(tǒng)鎳/銅離子過高報(bào)警鎳/銅離子過低報(bào)警添加液位異常報(bào)警，提示加注藥水添加超時(shí)報(bào)警MTO報(bào)警，添加量到待設(shè)定MTO報(bào)警發(fā)光度異常報(bào)警，提示感應(yīng)器異常抽藥故障報(bào)警添加故障報(bào)警取樣異

能節(jié)省寶貴電鍍缸空間不一定需要消泡程），光纖光電技術(shù)，能提供穩(wěn)定的、重復(fù)性的、精確的濃度測(cè)量，不會(huì)受電鍍缸衰老、顏色變化或沉淀物突增影響。淺淡化學(xué)鍍銅控制器美國(guó)WALCHEM化學(xué)沉潤(rùn)蝕刻銅自動(dòng)添加藥水控制器（型號(hào)WCU410）

控制器會(huì)有校準(zhǔn)提示?？煽刂瞥龆?--每個(gè)輸出端都可程控至自動(dòng)運(yùn)行、金鹽計(jì)數(shù)添加控制器

線分析電鍍缸內(nèi)鍍鎳溶液濃度的變化，能以克每升（g/L）或液盎司每加侖（oz/gal）來顯示。使用此控制器在鍍鎳缸上能減少人工滴定檢驗(yàn)的需要并增加生產(chǎn)能力，當(dāng)?shù)竭_(dá)最大”金屬消耗”時(shí)更能自動(dòng)地提示使用者從而減少資源浪費(fèi)及增加電鍍缸的壽命。只需設(shè)定好設(shè)定點(diǎn)就能得到準(zhǔn)確的結(jié)果省去重復(fù)調(diào)校及校準(zhǔn)的不便。

手動(dòng)運(yùn)行或關(guān)閉模式。參數(shù)調(diào)整---用戶可調(diào)整濃度設(shè)定點(diǎn)、警報(bào)設(shè)定點(diǎn)（高位及低位）、盲點(diǎn)設(shè)定及開泵時(shí)限，連鎖功能透過外接組件（例如流量掣）來釋放輸出端繼電器的開或關(guān)。程控密碼鎖---保護(hù)設(shè)定參數(shù)，

觀察分離狀況。方法二 : 取酸性蝕刻廢液于反應(yīng)器中，金鹽計(jì)數(shù)添加控制器

二.實(shí)物照片化學(xué)規(guī)們典誘加乘統(tǒng)四液型三.主要部件說明1、取樣及冷卻系統(tǒng)包括：a.取樣泵1臺(tái)；電子取樣泵，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單防堵塞；b.卻樣冷卻器一組，無接頭，保證取樣藥水溫度恒定；說明：取樣、分析、添加分步工作，各工序時(shí)間可任意設(shè)定2、分析系統(tǒng)包括a.鎳/銅離子感應(yīng)器1臺(tái)，日本進(jìn)口芯片；

在攪拌中緩慢加入堿性蝕刻廢液，并調(diào)節(jié)至適當(dāng)pH值，攪拌反應(yīng)，靜置沉淀，觀察分離狀況。試驗(yàn)結(jié)果表明，在相同的條件下，方法一反應(yīng)后得到的反應(yīng)物固液分層明顯，沉淀效果較好；方法二反應(yīng)后產(chǎn)生了膠體現(xiàn)象，溶液分層不明顯。