今天捷宇環(huán)保的小編告訴大家化學鎳自動添加控制器的測量性能參數(shù)調整
  測量性能
  ? 濃度范圍 (WCU): 0.01~5.5 g/L (0.001~0.73 oz/gal)
  ? 鎳的濃度范圍 (WNI): 0.01~10 g/L (0.001~0.73 oz/gal)
  ? 精度: 0.01 g/L (0.001 oz/gal)

  Walchem的WCU410鍍銅控制器和WNI410鍍鎳控制器是應用光電學原理在線分析測量溶液中銅或鎳的濃度。其應用廣泛，包括無電解化學鍍槽和微蝕刻槽(包括氧化還原類)。

  WCU410可以通過菜單切換化學鍍銅至微蝕應用，無需增加另一臺控制器。減少滴定檢驗的工序從而提高效率；應用于微蝕刻工藝時，減少更換槽內液體的頻率而提高生產力。

   WNI410供鍍鎳控制，可增加PH控制器。設有兩個控制泵之獨立輸出信號，供鎳鍍液和還原劑而設；另一個輸出專為pH而設。每個輸出端口都可以統(tǒng)計泵的運作時間、總流量和金屬離子周轉量。
  已通過UL/CSA/CE認證。

 
  參數(shù)調整
  用戶可以輕易地調整濃度設定點、警報設定點(上限及下限)、緩沖范圍及泵運作時間。而聯(lián)鎖功能通過外接組件(例如流量開關)連結同時控制繼電器。

  簡單、綜合的數(shù)據(jù)采集
  只需一個U盤即可從控制器下載存儲的數(shù)據(jù)。使用這些數(shù)據(jù)可以驗證系統(tǒng)性能，而數(shù)據(jù)和事件日志顯示銅或鎳數(shù)值以及化學品累計投放量和繼電器啟動時間。

  4個獨立控制繼電器及輸出端口(WCU)
  可用于添加銅液、腐蝕劑、甲醛或螯合劑/穩(wěn)定劑。每個輸出端口都統(tǒng)計總補充量(以時間或流量為單位)。

  可選的pH輸入組件(WNI)
  可用于添加調節(jié)pH值的化學品，輸出端口統(tǒng)計總補充量(以時間或流量為單位)。

  濃度讀數(shù)單位
  選擇以克/每升(g/L)或盎司/每加侖(oz/gal)為單位。背光電子顯示屏能夠提供柱狀圖，將設定點與測量值的數(shù)據(jù)連續(xù)顯示。

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