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這篇文章主要是講氧化銅再生添加控制器的特點(diǎn),化學(xué)組成和蝕刻原理
1、 特性
適用于生產(chǎn)多層板內(nèi)層,掩蔽法印制板和單面印制板,采用的抗蝕劑是網(wǎng)印抗蝕印料、干膜、液體感光抗蝕劑,也適用于圖形電鍍金抗蝕印制電路板的蝕刻。
A, 蝕刻速率易控制,B, 蝕刻液在穩(wěn)定的狀態(tài)下,C, 能達(dá)到高的蝕刻質(zhì)量。
D, 溶銅量大。E, 蝕刻液容易再生與回收,F(xiàn), 減少污染。
2、 化學(xué)組成:
化學(xué)組分 添加到1升 添加到1升; 添加到1升 添加到1升; 添加到1升
3、 蝕刻原理
在蝕刻過(guò)程中,氯化銅中的二價(jià)銅具有氧化性,能將印制電路板面上的銅氧化成一價(jià)銅,其化學(xué)反應(yīng)如下:
蝕刻反應(yīng):CU+CUCL2→CU2CL2
以上就是氧化銅再生添加控制器的特點(diǎn),化學(xué)組成和蝕刻原理的全部?jī)?nèi)容,更多資訊歡迎訪(fǎng)問(wèn)捷宇環(huán)保官網(wǎng)了解更多。